管式爐具有操作簡單、保溫效果好、控溫精度高、溫度范圍大以及可通氣氛等特點，主要應用于院校實驗室、工礦企業實驗室，應用于高、中、低溫CVD工藝，如碳納米管的研制，晶體硅基板鍍膜，金屬材料擴散焊接以及真空或氣氛下的熱處理等。
在使用過程中，因操作不當的因素，很容易導致設備出現真空度不高的情況，從而影響設備的使用效率，無法達到使用標準，對此，我們應該如何進行抽真空操作，從而保證設備的使用。
然而為了節約成本，我們根據抽真空的目的是排除氧氣，我們可以向管式爐內部充入氮氣、氬氣等惰性氣體，降低氧氣濃度從而達到實驗材料不會出現氧化還原現象，操作步驟如下：
1、首先，我們將接上真空泵和氮氣瓶，然后將所有閥門關閉，打開真空泵和真空閥門，觀察壓力表等到真空泵真空度穩定后，關閉真空閥門和真空泵；
2、然后打開氣瓶打開進氣閥門，等到壓力表恢復常壓后，關閉進氣閥門；
3、此時爐內空氣濃度降低，但空氣仍有殘留，我們重復上述步驟，即可得到更高純度的氮氣從而排除空氣，如需更高純度的實驗可多次重復上述步驟。注意打開和關閉泵閥氣瓶順序。
部分實驗室管式爐需要在真空內實驗，真空泵度很高，但是達不到實驗要求，可能是抽完真空后直接關閉真空泵沒有關閉真空閥門，因為真空泵不工作狀態會回流空氣，從而導致空氣進入爐管內，我們只需在抽完真空后先關閉真空閥門即可解決此類問題。
時間：2024-03-29
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