C系列氣相沉積爐

產(chǎn)品簡介

熱誘導化學氣相沉積 (英語:chemical vapor deposition ,CVD)是用于各種電介質(zhì),半導體和金屬材料的保護涂層的沉積的有力方式，無論是單晶，多晶，無定形或外延狀態(tài)上或大或小的形態(tài)。典型的涂層材料包括熱解碳，碳化硅，氮化硼。通過使用合成前體，涂層非常純凈并目滿足半導體工業(yè)的典型要求，根據(jù)工藝參數(shù)，可以有多種層厚度。

產(chǎn)品型號：

更新時間：2025-08-12

廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家

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產(chǎn)品分類

PRODUCT CLASSIFICATION

C系列-氣相沉積爐

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單溫區(qū)管式爐實現(xiàn)了很高的能源轉(zhuǎn)化率

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品牌	HAOYUE/皓越	升溫速度（達到最高溫）	1~10℃//min
內(nèi)部尺寸	Φ1400x2000mm	加熱方式	石墨電阻
最大功率	360kW	控溫精度	±1℃
最高溫度	1600℃	價格區(qū)間	面議
儀器種類	真空爐	產(chǎn)地類別	國產(chǎn)
應(yīng)用領(lǐng)域	化工,地礦,能源,電子/電池,鋼鐵/金屬

氣相沉積爐簡介

熱誘導的化學氣相滲透(英語:chemical vaporinfiltration ,CVI)是一個與CVD有關(guān)的技術(shù)，以在基體材料滲入多孔或纖維預成型件以制備由復合材料制成的部件具有改善的機械性能，耐腐蝕性，耐熱沖擊性和低殘余應(yīng)力。
技術(shù)特點：

采用立式、底/頂開門結(jié)構(gòu)：裝、卸料精度高，操作方便；
采用先進的控制技術(shù)，能精密控制MTS的流量和壓力，爐膛內(nèi)沉積氣流穩(wěn)定，壓力波動范圍小；
溫度均勻性好：平均溫度均勻性為±5℃；
采用多通道沉積氣路，流場均勻，無沉積死角，沉積效果好；
全封閉沉積室，密封效果好，抗污染能力強；
安全性能好：采用HMI+PLC+PID壓力傳感控制，安全可靠；
對沉積產(chǎn)生的高腐蝕性尾氣、易燃易爆氣體、固體粉塵及低熔點粘性產(chǎn)物能進行有效處理；
多級高效尾氣處理系統(tǒng)，環(huán)境友好，能高效收集焦油及副產(chǎn)物，易清理；
采用設(shè)計防腐蝕真空機組，持續(xù)工作時間長，維修率極低。

設(shè)備規(guī)格：

產(chǎn)品編號	產(chǎn)品型號	有效區(qū)尺寸（mm）	冷態(tài)極限真空度(Pa)	最高工作溫度(℃)	適用工藝
C4VGR16	VVCgr-56/60-1600	Φ560x600	1	1600	CVD/CVI
C6VGR16	VVCgr-84/90-1600	Φ840x900	1	1600	CVD/CVI
C8VGR16	VVCgr-110/120-1600	Φ1100x1200	1	1600	CVD/CVI
C10VGR16	VVCgr-140/200-1600	Φ1400x2000	1	1600	CVD/CVI